Produk silikon nitrida produk tinggi

Mikrostruktur mosaik silikon sebahagiannya kristal yang terdapat disilikon nitridaFilem yang disediakan oleh LPCVD. Bergantung pada keadaan dan proses yang semakin meningkat, skala struktur berkisar dari puluhan hingga beratus -ratus nanometer. Berdasarkan keputusan ujian tekanan dan penghantaran mikroskopi elektron hasil hasil filem SINX yang ditanam di bawah keadaan yang berbeza, genesis struktur mikroskop filem-filem Sinx yang kaya dengan silikon dan interaksi mereka dengan tekanan dalam filem dianalisis, dan proses pertumbuhan silikon yang kaya dengan filem-filem yang tidak dapat dioptimumkan, yang tidak dapat dikurangkan, yang dapat dikurangkan, 40mm × 40mm. Berdasarkan hasil kajian ini, pertumbuhan terkawal membran Sinx dengan tekanan tegangan yang ditentukan telah direalisasikan oleh LPCVD.

1.Silikon nitridaFilem nipis (sin _ x) telah disediakan oleh teknologi pemendapan wap kimia tekanan rendah (LPCVD) menggunakan silane dan ammonia sebagai sumber silikon dan nitrogen, dan nitrogen kemelut tinggi sebagai gas pembawa. Kinetika pertumbuhan filem _ x dipelajari oleh ellipsometry, sifat-sifat filem _ x dicirikan oleh spektroskopi inframerah Fourier dan spektroskopi X-ray adalah Di bawah keadaan yang sama proses lain, kadar pertumbuhan filem sin _ x meningkat secara monotonik dengan peningkatan tekanan kerja, dan nisbah (r) kadar aliran ammonia ke silane dalam gas suapan mempunyai kesan yang bertentangan dengan kadar pertumbuhan filem. Apabila suhu tindak balas meningkat, kadar pemendapan meningkat secara beransur -ansur, mencapai maksimum sekitar 840 darjah dan kemudian berkurangan dengan cepat. Apabila R2 digunakan, Sin-kaya Sin _ x filem nipis (x1.33) diperolehi. Apabila R4 digunakan, filem _ x dengan hampir-stoikiometrik (z≈1.33) diperolehi.

Cool tags: Produk Silicon Nitride Tahap Tinggi, Produk Silicon Nitride Produk Tinggi China, Pembekal, Kilang